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作業(yè)原理：
全程綜合水處理器首要選用高頻技能，使用高頻電場力的效果使水活化，水中的Ca2+、Mg2+離子的運動速度
下降，與水中的CO32-、SO42-等離子有效磕碰次數(shù)削減，靜電引力下降，所以受熱壁或管外表無法結(jié)垢，
然后到達(dá)防垢的意圖。高頻電磁場使水的浸透力與溶解度增大，并對金屬外表的水垢薄弱環(huán)節(jié)縱向浸透到金屬外表后，開端沿金屬與水垢外表橫向浸透，使水垢呈片狀脫離金屬外表，然后到達(dá)除垢的意圖。微電環(huán)境可遏止微生物的成長，損壞其生存環(huán)境，別的設(shè)備作業(yè)過程中生成的活性氧自由基，具有損傷生物大分子，改動菌類、藻類生存的生物場等效果以到達(dá)滅菌、滅藻的意圖。其次使用復(fù)合過濾體系（外表過濾原理、多介質(zhì)復(fù)合層、電能磁場效應(yīng)）吸附、捕捉水中懸浮物鐵錳離子、菌藻膠體等并排出體系，到達(dá)超凈過濾的效果。
技能參數(shù)
①控制腐蝕率：＜0.01毫米/年，過濾功率＞75%～98%，防垢除垢功率>95%，滅菌滅藻>92%
②壓力丟失： ＜0.03～0.06Mpa
③作業(yè)電壓： 交流160V～240V
④安全絕緣電壓： 5000V
⑤耗費功率： ＜120W～600W
⑥作業(yè)環(huán)境要求： 溫度-25℃～+50℃ 相對溫度＜95%
⑦作業(yè)溫度（被處理介質(zhì)溫度）：-25℃～+90℃
⑧均勻無故障作業(yè)時間：不小于50000小時
設(shè)備操作
①為了便于設(shè)備裝置檢修，主體頂端與最大外徑需與其他設(shè)備相距400mm以上。
②制止在無水狀態(tài)下長期敞開設(shè)備。
③設(shè)備應(yīng)為旁通式裝置，以滿意在不停機狀態(tài)下檢修設(shè)備及反沖刷濾體的需求。
④排污率：新體系初度使用時，應(yīng)每天反沖刷1～2次。正常運轉(zhuǎn)后，當(dāng)進(jìn)出水口壓差到達(dá)0.03～0.06Mpa時進(jìn)行反沖刷。污染嚴(yán)重的體系，應(yīng)選用氣、水混合反吹洗。
⑤反洗：翻開骨干閥，排污閥，封閉設(shè)備進(jìn)水閥，最終堵截220V電源，進(jìn)行反向沖刷濾體。反洗時間視水質(zhì)狀況而定，一般狀況下為30秒左右。
⑥復(fù)生濾體后進(jìn)出水口壓差康復(fù)到原壓差值、敞開進(jìn)水閥、封閉骨干閥、排污閥、接通220V電源，使設(shè)備正常作業(yè)。
使用規(guī)模
①中央空調(diào)，冷水機組，制冷機；冷卻、冷凍循環(huán)水體系。
②選用體系：在供暖、供熱的熱水循環(huán)體系。
③工業(yè)、民用、冷卻水：在工業(yè)、民用、工藝?yán)鋮s循環(huán)水體系。
④公寓、酒店：生活洗浴熱水循環(huán)體系，餐飲、洗衣房、游泳池等。
⑤地?zé)崴w系：使用地?zé)崴M(jìn)行洗浴，采暖的循環(huán)體系。